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高温光栅质量控制因素研究

A STUDY ON THE CONTROL FACTORS OF THE GRATINGS FOR HIGH TEMPERATURE

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【作者】 谢惠民张维邹大庆戴福隆王国弢

【Author】 Xie Huimin Zhang Wei (Tsinghua University, Beijing 100084) Daqing Dai Fulong Wang Guotao (China Ordins Corporation, Beijing 100045)

【机构】 清华大学中国兵工物资总公司中国兵工物资总公司 北京 100084北京 100084北京 100045北京 100045

【摘要】 本文对光刻腐蚀法、光刻镀(涂)层法、镀层腐蚀法、双镀层法等多种高温栅制作工艺进行了详细的讨论,对它们的适用范围及所制光栅的质量控制因素进行了分析,首次提出了多介质镀层法制作高温光栅的新工艺,并成功地制作出可耐1000℃的多介质镀层高温栅,高温氧化实验结果表明,多介质高温栅具有较好的抗氧化能力。

【Abstract】 In this paper, the etching photoetching method, the deposited film photoetching method, the etching deposited film method and the two deposited layers photoetching method were studied, their applicable range and control factors of producing grating were analysed- The multi-media deposited layer method was put forward. The multimedia deposited layer grating for high temperature was successfully used in the measurement at 1000℃ and the good experimetal results verified it had a strong oxidation resistant ability.

【基金】 国家自然科学基金资助项目
  • 【文献出处】 测试技术学报 ,Journal of Test and Measurement Technology , 编辑部邮箱 ,1996年03期
  • 【分类号】TH74
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】74
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