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离子束辅助沉积技术及其进展

Ion Beam Assisted Deposition Technique and its Development

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【作者】 傅永庆朱晓东徐可为何家文

【Author】 Fu Yongqing Zhu Xiaodong Xu Kewei He Jiawen Xian Jiaotong University, Xian 710048

【机构】 西安交通大学

【摘要】 本文介绍了离子束辅助沉积技术的基本原理,主要工作特点,设备及主要影响因素。综述了利用该技术在制备各种新型膜层方面研究的新进展。并指出该技术的不足及未来发展方向。

【Abstract】 The principle、main advantages and various techniques of Ion Beam Assisted Deposition are introduced. The recent progress of this new technique in preparing new coatings are reviewed. The disadvantages and future trends of this technique are also pointed out.

【关键词】 离子束辅助沉积薄膜
【Key words】 Ion beam assisted deposition(IBAD)Thin film
  • 【文献出处】 材料科学与工程 ,MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING , 编辑部邮箱 ,1996年03期
  • 【分类号】TG664
  • 【被引频次】55
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