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在蓝宝石衬底上低压MOVPE生长GaN单晶

Epitaxial growth of GaN on sapphire substrate by LP-MOVPE

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【作者】 党小忠张国义童玉珍王舒民

【Author】 DANG Xiaozhong;ZHANG Guoyi;TONG Yuzhen;WANG Shumin(Beijing University,Beijing 100871,CHN)

【机构】 北京大学

【摘要】 :研究用水平反应室低压金属有机物汽相外延(LP-MOVPE)方法在C面及R面蓝宝石衬底上外延生长GaN单晶。讨论了反应室中气流分布和汽相反应对GaN外延生长的影响;提出了不同的衬底晶向对外延GaN表面形貌产生影响的机制。

【Abstract】 Using horizontal reactor LP-MOVPE,the high quality GaN epitaxial lay er is grown on C-plane and R-plane sapphire substrate.The effects of gas flow distrlbu tion and vapour phase reaction in the reactive chamber on the GaN epitaxial growth are dis cussed;and a plausible model is proposed to explain the effect of substrate orientation on the epitaxial GaN surface morphology.

【关键词】 半导体材料氮化镓汽相外延
【Key words】 Semiconductor MaterialsGaNVPE
  • 【文献出处】 半导体光电 ,SEMICONDUCTOR OPTOELECTRONICS , 编辑部邮箱 ,1996年01期
  • 【分类号】TN304.054
  • 【被引频次】7
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