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IBAD钼膜与Al_2O_3(0001)单晶界面的HREM研究  
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【英文篇名】 INESTIGATION OF IBAD Mo FILMS-Al_2O_3(0001) SUBSTRATE INTERFACES BY HIGH RESOLUTION MICROSCOPY
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【作者】 何向军; 陶琨; 范玉殿;
【英文作者】 He Xiangjun; Tao Kun; Fan Yudian (Department of Materials Science and Engineering; Tsinghua University; Beijing);
【作者单位】 清华大学材料科学与工程系;
【文献出处】 真空科学与技术 , , 编辑部邮箱 1995年 05期  
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 离子束辅助沉积; 界面; 显微结构;
【英文关键词】 Ion-beam assisted deposition (IBAD); Interface; Microstructure;
【摘要】 采用中等能量离子束辅助沉积（IBAD）技术在单晶Al2O3（0001）基片上沉积钼膜，通过HREM等分析手段，在原子尺度上，对于钼膜及其与Al2O3单晶基体界面的显微结构进行了研究。结果表明：钼膜的晶粒呈细小柱状或纤维状，平均晶粒尺寸约为8nm，钼膜的致密度较高，膜内存在非晶组织。在钼膜与Al2O3单晶基片之间存在厚约10～15nm的非晶过渡层，在界面处未发现原子的长程扩散。非晶过渡层与钼膜界面处存在台阶，增加了钼膜的形核点。
【英文摘要】 Molybdenum films were deposited on Al2O3(0001) substrate by ion-beam assisted deposition (IBAD). The microstructure of the films and the interface between molybdenum films and Al2O3 (0001 ) have been studied on atomic scale by using the cross-sectional technique and HREM. The results show that molybdenum films deposited by IBAD result in a columnar microstructure with columns which are uniform in width from substrate to the top of the films. The average column diameter is about 8 nm. No voids were found in ...
【基金】 国家自然科学基金
【分类号】 TB43
【正文快照】 1引言材料界面的存在及其性质极大地影响着高技术应用（例如：电子封装系统、薄膜技术、陶瓷一金属连接等）中材料的许多重要的物理、化学性质。随着高分辨电子显微技术及制备横截面样品技术的发展，利用高分辨电子显微技术及分析电子显微技术，在原子尺度上研究界面的结构、界

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