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大面积ACPDP保护膜的制备及其特性之研究

Study of the Manufacturing Technology and its Characterization for Large Area ACPDP Protection Film

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【作者】 梁宜勇； 顾智企；

【Author】 Liang Yiyong; Gu Zhiqi (Hangzhou University 310028)

【机构】 杭州大学显示室；

【摘要】 本文讨论了制取均匀、致密、清洁ＭｇＯ保护膜的途径及不同工艺对膜和ＡＣＰＤＰ特性之影响。

【Abstract】 The technology manufacturing the uniform, compact and clean protection MgO film and the effects of influencing the film and ACPDP characteristics are discussed in this paper.

【关键词】 交流等离子体显示板； 氧化镁薄膜； 电子束蒸发；
【Key words】 ACPDP； MgO film； E-beam evaporation；
  • 【文献出处】 真空电子技术 ,VACUUM ELECTRONICS , 编辑部邮箱 ,1995年03期
  • 【分类号】TN141.5
  • 【被引频次】2
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