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宽离子束刻蚀微透镜阵列研究

STUDY ON ETCHING TECHNIQUE OF WIDE ION BEAM FOR MICROLENS ARRAY

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【Author】 zhao Guangxing; Yan Guoguang; Chen Hongqiu; Hov Xiyun(Optics and Science Department,Zhejiang University,Hangzhou 310027)

【机构】浙江大学现代光学仪器国家重点实验室；

【摘要】本文对宽束离子束刻蚀技术进行了研究，并运用宽离子束对微透镜阵列进行了刻蚀，表明宽离子束可进行微米、亚微米刻蚀。更多还原

【Abstract】 The studyon etching technique of wide ion beam(WIB) iS reported.A piece of microlens array is etched by the WIB.It shows that the etching of WIB can be used as the micron and sub-micron etching.更多还原

【关键词】宽离子束；刻蚀；微透镜阵列；
【Key words】 wide ion beam； etching； microlens array；

【基金】国家自然科学基金

【文献出处】微细加工技术 ,MICROFABRICATION TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1995年01期

【分类号】TN305.7
【被引频次】9
【下载频次】96

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