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质量作用定律在半导体统计中的应用

APPLICATION OF MASS REACTION LAW IN SEMICONDUCTOR STATISTICS

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【作者】 马文采夏思淝李蕾裘南畹

【Author】 Ma Wencai;Xia Sifei; Li Lei; Qiu Nanwan(Dept.of Mathematics and Physics,Shandong University of Technology, Jinan 250014)

【机构】 山东工业大学数理系

【摘要】 本文用化学反应动力学中的质量作用定律及阿累乌尼斯(Arrbenius)定律,对金属氧化物半导体一些统计公式进行了研究,给出了费米(Fermi)函数、氧空位施主浓度的公式,表面吸附氧的氧原子及氧离子浓度公式.并对有关问题进行了讨论.

【Abstract】 Some researches about statistic formulas of metal oxide semiconductors were made with mass reaction law and Arrhenius law in chemical reaction kinetics. Fermi f unction,formula of donor density of oxygen vacancy and formulas of density of attracted oxygen atoms and ions on the surface were given,some concerned problems were also discussed.

  • 【文献出处】 山东工业大学学报 ,JOURNAL OF SHANDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1995年01期
  • 【分类号】O471.2
  • 【被引频次】2
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