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同步辐射辐照下Mo/Si,Pd/Si多层膜的稳定性
【摘要】 <正>随着众多同步辐射装置的建成和完善,软X射线光学得到迅速发展.由于同步辐射能量密度较高,可能使光束线上的插入元件温升很高.因为辐照对化学反应有促进作用,故此在同步辐射辐照下,作为反射、色散元件的人工周期性多层膜的稳定性是一个值得研究的问
【基金】 国家自然科学基金;合肥国家同步辐射实验室资助课题
- 【文献出处】 科学通报 ,Chinese Science Bulletin , 编辑部邮箱 ,1995年08期
- 【分类号】TB43
- 【被引频次】1
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