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铁电PLZT薄膜的钙钛矿型结构与性能的研究
Perovskite Structure and Properties of Ferroelectric Thin Films
【摘要】 计论了用射频磁控溅射沉积的PLZT(7.5/65/35)陶瓷薄膜的结构和铁电性能。研究表明,在不加热的Pt/Ti/Si衬底上沉积PLZT薄膜即钙钛矿型的高度取向薄膜,没有烧绿石相出现,同时具有很好的微观结构;增加薄膜的厚度导致a轴取向的增长;退火处理有助于PLZT薄膜的钙钛矿相的增长,并在薄膜中出现了蔷薇状共晶组织。这种PLZT薄膜的剩余极化强度、矫顽场强度分别为22.9μ/cm2和62.4KV/cm。
【Abstract】 Ferroelectric thin films of lanthanum-modified lead zirconate(PLZT)were successfully deposited onplatinum-coated silicon substrates by rf magnetron sputtering.The as-grow thin films have highly(210)-oriented perovskite structure.The effects of film thick ness and annealing on thin films structure have beendiscussed.The films(470)annealed at 650℃for 0.5h have a remament polarization of 22.9μC/cm2 anda coercive field of 62. 4KV/cm.
【关键词】 铁电薄膜;
钙钛矿相;
射频磁控溅射;
【Key words】 Ferroelectric thin films; Perovskite; Rf magnetron sputtering;
【Key words】 Ferroelectric thin films; Perovskite; Rf magnetron sputtering;
【基金】 863计划资助项目
- 【文献出处】 高技术通讯 ,HIGH TECHNOLOGY LETTERS , 编辑部邮箱 ,1995年05期
- 【分类号】TM221.03
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