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直流磁控反应溅射沉积ITO透明导电膜的研究

Study of ITO Transparent Conducting Thin Films Deposited by DC Magnetron Reactive Sputtering

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【作者】 茅昕辉； 陈国平； 陈公乃； 张随新； 张旭苹；

【Author】 Mao Xinhui; Chen Guoping; Chen Gongnai Zhang Suixin; Zhang Xuping (Thin Films Institute, Southeast University, 210096)

【机构】 东南大学薄膜研究所!210096；

【摘要】 研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。介绍了膜的制备工艺和膜的特性。讨论了成膜过程和热处理对膜的电阻率和透光率的影响。

【Abstract】 ITO transparent conducting films deposited by DC magnetron reactive sputtering from In-Sn alloy target were Studied. The process and properties of ITO films are described. The effects of depositing and annealing parameters on transmission of films are discussed as well.

【关键词】 ITO膜； 透明导电膜； 直流磁控反应溅射；
【Key words】 ITO films； transparent conducting films； DC magnetron reactive sputtering；
  • 【文献出处】 光电子技术 ,Optoelecfronic Technology , 编辑部邮箱 ,1995年01期
  • 【分类号】TN1
  • 【被引频次】15
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