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低温高速双极晶体管基区的优化设计

Optimizing the Base Profile for High-SpeedBipolar Transistore at Low Temperature

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【作者】 李垚魏同立沈克强

【Author】 Li Yao; Wei Tongli;Shen Keqiang(Microelectronics Center, Southeast University, Nanjing 210018)

【机构】 东南大学微电子中心

【摘要】 本文考虑禁带变窄效应和载流子冻析效应,分析了基区掺杂浓度的分布、基区峰值浓度的大小及位置对基区渡越时间的影响,结合基区电阻的温度模型,对低温高速双极晶体管的优化设计作了探讨。

【Abstract】 The influences of the distribution of the base doping concentration, the magnitude and thelocaton of the base peak concentration on base transit time are studied by consideruig bandgap-narrow-ing effects and carrier freeze-out effects. Including a base resistance model dependent of temperature,optimuni design of the base of hish-spoed bipolar transistors at low temperatures is investigated.

【基金】 国家自然科学基金
  • 【文献出处】 东南大学学报 ,JOURNAL OF SOUTHEAST UNIVWRSITY , 编辑部邮箱 ,1995年03期
  • 【分类号】TN322.8
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】33
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