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TaN膜的结构、成分及性能

Structure,composition and properties of TaN thin films

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【作者】 张庆瑜陈斌王敏朱英臣陈 遐

【Author】 ZhangQingyu;Chen Bin;Wang Min;Zhu Yingchen;Chen Feixia(State Key Laboratory of Materials Modification by Laser,lon and Electron Beams,DUT)

【机构】 三束材料改性国家重点实验室大连理工大学分部

【摘要】 研究了三极溅射法制备的TaN膜的结构、成分及其性能。实验发现:随着氮分压的增加,TaN膜的结构将从面心立方相转变为六方相;TaN膜的显微硬度在单一相结构时最大,而以双相共存时的显微硬度较低。

【Abstract】 The structure,composition and properties of TaN films deposited by a triode-sputtering ion plate are investigated.A phase transition from fcc TaN to hexagonal TaN with anincrease in the nitrogen partial pressure is observed.The microhardness of TaN film with singlephase is higher than that with fcc and hexagonal phases coexisting.

【关键词】 沉积结构分析性能/TaN膜
【Key words】 depositionfilmstructural analysisproperties/TaN film
【基金】 国家自然科学基金
  • 【文献出处】 大连理工大学学报 ,JOURNAL OF DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1995年04期
  • 【分类号】O174.442
  • 【被引频次】9
  • 【下载频次】110
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