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复合膜高选择性CH4元件研制

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【作者】 吴家琨韩晶波孙良彦

【机构】 吉林大学电子工程系

【摘要】 复合膜高选择性CH_4元件研制吴家琨,韩晶波,孙良彦(吉林大学电子工程系长春130023)关键词表面修饰;催化层;选择性中图分类号TP212.2文章应用了表面修饰技术.在敏感材料的外面加一层催化层,使干扰气体在表面层被阻隔、吸收或反应.明显地提高了S...

【关键词】 表面修饰催化层选择性
  • 【文献出处】 郑州轻工业学院学报 ,JOURNAL OF ZHENGZHOU INSTITUTE OF LIGHT INDUSTRY , 编辑部邮箱 ,1994年S1期
  • 【分类号】O621.25
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