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MOCVD法生长Ⅲ-Ⅴ族化合物材料近红外光致发光的测量

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【作者】 刘学彦高瑛赵家龙

【机构】 中国科学院长春物理研究所

【摘要】 本文利用近红外光致发光技术测量了MOCVD生长的Ⅲ-Ⅴ族化合物Ga_(0.5)In_(0.5)和InP中的深能级发光,研究了这些深能级发光对激发强度和温度的依赖关系;讨论了Ga_(0.5)In_(0.5)P外延层深能级发光的辐射机理和来源,得出了InP外延层的C带发光的热激活能。

【基金】 中国科学院长春物理研究所激发态物理开放实验室基金
  • 【文献出处】 稀有金属 ,CHINESE JOURNAL OF RARE METALS , 编辑部邮箱 ,1994年03期
  • 【分类号】TN304.23
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