节点文献

国产CF4+O2混合气体在Si3N4腐蚀中的应用

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【作者】 江鸿； 吕军；

【机构】 中国华晶电子集团公司中央研究所!无锡； 214035；

【关键词】 蚀中； CF4+O2； Si3N4； 混合气体； 等平面工艺； 光刻胶； 均匀性； 有源区； 速率上升； 射频功率；
  • 【文献出处】 微电子技术 ,Microelectronic Technology , 编辑部邮箱 ,1994年01期
  • 【分类号】TN305
  • 【下载频次】29
知网节下载
节点文献中： 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络
二级参考文献(0)
参考文献(0)
共引文献(0)
节点文献
同被引文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)