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光纤原料四氯化硅中微量三氯氢硅的气相色谱分析

Gas Chromatographic Determination(GC) of Trace Trichlorosilane in High Purity Silicon Tetrachloride for Optical Fibers

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【作者】 李卜森朱新芳张琪

【Author】 Li Busen ; Zhu Xinfang and Zhang Qi(Shang Institute of Nuclear Research,The Chinese Academy of Scienes,Shanghai,201800)

【机构】 中国科学院上海原子核研究所

【摘要】 采用石英毛细管柱与氩检测器相联结的气相色谱方法定量检测高纯的光纤原料四氯化硅中微量三氯氢硅等含氢杂质。该方法简单、可靠,三氯氢硅的检测下限达0.1×10 ̄(-6)W/W。

【Abstract】 GC method for detemining trace SiHCl3 in high purity SiCl4 has been developed. The methed,using afused sinica capillary column for separation and a sensitive argon detector for quantitative determination of someimpurities of ppm level,is simple, stable and reliable. the minimum detectable concentration was 0.1 ppm forSIHCl3. This GC system is resisting to corrosion of the sample in the long run.

【关键词】 气相色谱氩检测器三氯氢硅四氯化硅
【Key words】 gas chromatographySiHCl3SiCl4argon detector
  • 【文献出处】 色谱 ,CHINESE JOURNAL OF CHROMATOGRAPHY , 编辑部邮箱 ,1994年02期
  • 【分类号】TN25
  • 【被引频次】8
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