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用非晶态合金作中间层对Si_3N_4陶瓷进行扩散焊连接  
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【英文篇名】 AMORPHOUS Cu_(50)Ti_(50) ALLOYINTERLAYER IN DIFFUSION BONDING OF Si_3N_4 CERAMICS
【下载频次】 ★★★☆
【作者】 翟阳; 任家烈; 庄丽君;
【英文作者】 ZHAI Yang; REN Jialie ZHUANG Lijun(Tsighua University);
【作者单位】 清华大学;
【文献出处】 金属学报 , ACTA METALLRUGICA SINICA, 编辑部邮箱 1994年 20期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 非晶态合金; 中间层; 扩散焊; Si_3N_4; Cu_(50)Ti_(50);
【英文关键词】 amorphous Cu_(50)Ti_(50) alloy; diffusion bonding; interlayer; Si_3N_4;
【摘要】 研制了两种非晶态物质Cu_(50)Ti_(50),Cu_(50)Ti_(50)B作为对Si_3N_4扩散焊连接的中间层材料.研究结果表明:用非晶态作为中间层可改善工艺条件,降低扩散焊温度;非晶态中间层接头比其相应晶态中间层接头的剪切强度有明显提高.其中硼对提高接头剪切强度贡献很大.用非晶态Cu_(50)Ti_(50)B作中间层时,接头强度最高可达340MPa用晶态和非晶态Cu_(50)Ti_(50),Cu_(50)Ti_(50)B作中间层对Si_3N_4进行扩散焊连接的机制是:活性元素Ti向陶瓷界面扩散和富集并与Si_3N_4发生反应生成界面相TiN,TiSi_2等.从而实现连接.
【英文摘要】 An attempt was made to prepare the Cu_(50)Ti_(50) and Cu_(50)Ti_(50)B amorphous alloy interlayers in diffusion bonding of Si_3N_4 ceramic substrates. The amorphous Cu_(50)Ti_(50) interlayer, in comparison with the crystalline one, may improve the technological operation,reduce the diffusion bonding temperature and obviously increase the shearing strength,particularly up to 340 MPa with some B addition. It seems that the mechanism of the diffusion bonding of Si_3N_4 with Cu_(50)Ti_(50) and Cu_(50)Ti_(50)B in...
【基金】 国家自然科学基金
【分类号】 TG457
【正文快照】 用非晶态合金作中间层对Si_3N_4陶瓷进行扩散焊连接翟阳,任家烈,庄丽君(清华大学)摘要研制了两种非晶态物质Cu_(50)Ti_(50),Cu_(50)Ti_(50)B作为对Si_3N_4扩散焊连接的中间层材料.研究结果表明:用非晶态作为中间层可改善工艺条件,?

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