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半导体致冷电对金属化层粘接强度的研究

The Adhesive Strength Reasearch of Thermoelectric Cooling Couple Metallized Layers

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【作者】 刘振茂赵秀平李志伟张国威权五云

【Author】 Liu Zhenmao; Zhao Xiuping; Li Zhiwei; Zhang Guowei; Quan WuWn(Dept.of Control Engineering)

【机构】 哈尔滨工业大学微电子技术教研室

【摘要】 试验研究了三种半导体致冷电对金属化系统的拉伸强度,其中铋─镍─锡金属化系统与半导体致冷材料粘接强度最高,超过原始棒状材料的拉伸强度,它是半导体致冷器电对的最好的金属化系统.

【Abstract】 The adhesive strength of three thermeolectric cooling couple metallization systems have ho tested. The adhesive strength of Bi-Ni-Sn metallization system is the highest,and exed the tensil strength of the rod form thermoelectric cooling material ingot,for this reason, the Bi-Ni-Sn metallization system is the best for the thermoelectric cooling couple metallization.

  • 【文献出处】 哈尔滨工业大学学报 ,JOURNAL OF HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1994年05期
  • 【分类号】TB64
  • 【下载频次】27
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