节点文献

射频磁控溅射电致变色氧化钨薄膜

Electrochromic WOy Films Prepared by RF Magnetron Sputtering

推荐 CAJ下载
PDF下载
不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【Author】 Zhang Xuping Cheng Guoping (Southeast University,Nan Jing 210018)

【机构】东南大学薄膜研究所；东南大学薄膜研究所南京 210018；南京 210018；

【摘要】研究了以 WO₃为靶材,采用射频磁控溅射沉积 WO_y 电致变色膜。并对 WO_y 膜的沉积速率、光学常数及电致变色特性等与沉膜工艺参数之间的关系进行了测量研究。更多还原

【Abstract】 The WO_y films were prepared by rf reactive magnetron sputtering with sin- tering WO₃ target.The influence of depositing parameters on depositing rate,refrative in- dex and electrochromic properties of deposited WO₃ films was studied.更多还原

【关键词】电致变色；氧化钨薄膜；射频磁控溅射；
【Key words】 electrochromism； WO₃ thin film； rf magnetron sputtering；

【文献出处】光电子技术 ,Optoelectronic Technology , 编辑部邮箱 ,1994年03期

【分类号】TN304
【被引频次】1
【下载频次】95

知网节下载

节点文献中：

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络

节点文献