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提高金属膜电阻器可靠性的途径

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【作者】 于军曾祥斌吴正元

【机构】 华中理工大学固体电子学系

【摘要】 介绍了采用射频反应工艺制备的AlN薄膜对金属膜电阻器性能的影响,通过功率老化、高温贮存试验和电阻温度系数的测量,结果表明在陶瓷基体上淀积AlN薄膜可以提高金属膜电阻器的可靠性。

【关键词】 AlN薄膜金属膜电阻器可靠性
  • 【文献出处】 电子元件与材料 ,ELECTRONIC COMPONENTS $ MATERIALS , 编辑部邮箱 ,1994年02期
  • 【分类号】TM544.4
  • 【被引频次】16
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