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用烷基胺硼烷作还原剂化学镀镍

Electroless Nickel Plating with Alkyl Amine Boranes as Reductant

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【作者】 罗守福方玉诚

【Author】 Luo Shoufe Fan Yucheng

【机构】 上海交通大学!邮编200030冶金部钢铁研究总院

【摘要】 对烷基胺硼烷的性质,用二甲基胺硼烷作还原剂化学镀镍的优点和主要工艺参数以及所得镀层的性质作了介绍。

【Abstract】 In this paper, the properties of alkyl amine boranes, the advantages and major technological parameters of electroless nickel plating with DMAB (dimethylamine boranes) as reductant, and the properties of coatings obtained were described.

【关键词】 化学镀镍镍硼镀层二甲基胺硼烷
【Key words】 electroless nickel platingNi-B coatingDMAS
  • 【文献出处】 电镀与精饰 ,Plating and Finishing , 编辑部邮箱 ,1994年05期
  • 【分类号】TQ153
  • 【被引频次】2
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