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高开关比(Ion/Ioff)a-Si TFT

High On/Off Current Ratio of a-Si TFT

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【作者】 熊绍珍孟志国代永平周祯华张建军莫希朝李德林赵庚申徐温元

【Author】 Xiong Shaozhen; Meng Zhiguo; Dai Yongping; Zhou Zhenhua; Zhang Jianjun;Mo Xichao; Li Delin;Zhao Gengshen; and Xu Wenyuan(Institute of Photoelectronic Thin Film Devices and Technology,Nankai University,Tianjin, 300071, China )

【机构】 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所

【摘要】 本文报道了采用倒置交错结构(Ta/(Ta2O5)SiNx/in+a-Si/A1)的TET矩阵研究结果.其关态电流(I_off(-5V))在5—7×10 ̄-14A(对W/L=10),开态电流I_on(Z0V)大于10μA,I_on/Ioff在108量级,场效应迁移率可达0.79cm2/V.s.

【Abstract】 Abstract The research results on the array of inverted staggered a-Si TFT withthe structure of Ta/(Ta2O3) SiNx/i n+ a-St/Al have been reported. For the TFT’swith W/L = 10, their Off state current (Vg=-5V)is in the range of 5-7 X 10-14A and On state current (Vg= 20V) is over teD micro-ampere (uA). The On/Offcurrent ratio (Ion/Ioff ) is higher then 8 order of magnitude. The factors effecting theOff state current and the process condition in order to get the good results havebeen analyzed.

【关键词】 场效应SiTFToffon平带电压有源层迁移率界面态薄膜器件
【基金】 国家自然科学基金
  • 【文献出处】 半导体学报 ,CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS , 编辑部邮箱 ,1994年02期
  • 【分类号】TN304.12
  • 【被引频次】10
  • 【下载频次】277
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