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金刚石多晶薄膜和硅异质结研究

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【作者】 周之斌； 张亚增； 翟林华； 方建勋； 王丽君；

【机构】 安徽师范大学物理系；

【摘要】 采用热丝法，甲醇、丙酮及氢气等离子体在硅衬底上沉积出金刚石薄膜，用透射电镜（ＴＥＭ）及拉曼（Ｒａｍａｎ）谱分析膜中含有大小不等的金刚石颗粒，膜的厚度为５０一１００ｎｍ。Ｃ／Ｓｉ异质结Ｉ－Ｖ曲线具有二极管整流特性，可耐高压，击穿场强达１０￣７Ｖ／ｃｍ。

【关键词】 金刚石薄膜； 异质结； 整流特性；
  • 【文献出处】 半导体技术 ,SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1994年03期
  • 【分类号】TN304.055
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