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Ar~+离子注入对Ge/GaAs(100)异质结能带偏离影响的XPS研究

An XPS Study on the Effect of Ar~+ Implanting on Ge/GaAs (100) Heterojunction Band Offsets

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【作者】 徐世红刘先明朱警生麻茂生张裕恒徐彭寿许振嘉

【Author】 Xu Shihong Liu Xianming Zhu Jingsheng Ma Maosheng Zhang Yuheng(Sstructure Research Laboratory)Xu Penshou(Hefei National Synchrotron Laboratory)Xu Zhenjia(The Institute of Semiconductor, Academia Sinica)

【机构】 中国科学技术大学结构分析开放研究实验室合肥国家同步辐射实验室中国科学院半导体研究所

【摘要】 用X光电子能谱(XPS)方法研究了界面特性和Ge/GaAs(100)异质结的能带偏离关系。实验表明,当在清洁的GaAs(100)表面生长Ge异质结时,其价带偏离(△E_v)与界面特性无关,而在Ar离子注入的GaAs(100)表面上生长的Ge异质结,其价带偏离与Ar~+离子的浓度分布有关。

【Abstract】 The relationship between the interface properties and the band offsets of the Ge/GaAs (100) heterojunction is studied with X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The experimental results show that the valence-band offsets (△E_v) are independent on the interface properties when the Ge overlayer deposites on the clean CaAs(100) surface, and the valence-band offsets(△E_v) are related to the distribution of Ar~+ concentration when the Ge overlayer is evaporated on the Ar~+-implanted GaAs (100) surface.

【关键词】 异质结能带偏离X光电子能谱
【Key words】 heterojunctionband offsetXPS
【基金】 高等学校博士点专项基金
  • 【文献出处】 中国科学技术大学学报 ,Journal of University of Science and Technology of China , 编辑部邮箱 ,1993年04期
  • 【分类号】O471.5
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