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汞微电极阳极溶出伏安法测定痕量铜

Anodic Stripping Voltrammertic Determination of Trace of Trace Copper in Micro-Sample with a Mercury Unltramicroclectrode

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【作者】 齐明春； 彭淑环；

【Author】 Qi Mingchun Peng Shuhuan ( Department of Chemistry and Envrionmental Engineering )

【机构】 北京工业大学化学与环境工程学系； 北京工业大学化学与环境工程学系；

【摘要】 研究了在NH4OH-NH4Cl介质中,用玻碳电极同位镀汞膜阳级溶出伏安法测定样品中痕量铜,检测限达10-13mol/L-1,可用于多种样品的分析。

【Abstract】 The Determination of trace copper has been studied by anodic stripping voltammetry with a mercury-plated glassy elecrode in NH4OH-NH4Cl supporting elecrolyte solution. The detertion accurate within concentration is 10-13mol/L-1. Various samples can be anamed by this techique.

【关键词】 同位镀汞； 支持电解质； 富集电位； 富集时间；
【Key words】 mercury - plated in situ； supporting electrotyte； concentration electrie potential； concentration time；
  • 【文献出处】 北京工业大学学报 ,Journal of Beijing Polytechnic University , 编辑部邮箱 ,1993年04期
  • 【分类号】O657.122
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