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空心阴极离子镀膜机中进行离子渗氮的探索

Ionic Nitriding Process in HCD Apparatus

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【作者】 徐信夫； 翟乐恒； 张建华； 孙灼； 侯革；

【Author】 Xu Xinfu Zhai Leheng Zhang Jianhua Sun Zhuo Hou Ge ( Department of Metallic Materials Science and Engineering )

【机构】 北京工业大学金属材料科学与工程学系； 北京工业大学金属材料科学与工程学系；

【摘要】 对DLKD-800到离子镀膜机进行了技术改进,在改进后的DLKD-800型离子镀膜机中,用W6Mo5Gr4V2的试片(φ15×4)进行了离子渗氮的探索试验,试验取得较理想的结果,为离子渗镀复合工艺的研究奠定了基础。

【Abstract】 A DLKD-800 HCD apparatus is improved for study on the complex technology of ionitriding -ion plating TiN only in the HCD apparatus. With W6Mo5Cr4V2 specimens, a series of ionitriding tests are made in the improved DLKD-800. The tests yield ideal results and have laid the foundation for investigation on the complex technology.

【关键词】 渗氮； 高子镀； 氮化钛；
【Key words】 ionitriding； ion plating； titanium nitride；
  • 【文献出处】 北京工业大学学报 ,Journal of Beijing Polytechnic University , 编辑部邮箱 ,1993年04期
  • 【分类号】TG156.82;TG156.95
  • 【被引频次】3
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