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PVD镀膜技术研究及进展

THE DEVELOPMENTS IN FILM FORMING TECHNIQUES BY PVD PROCESS

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【作者】 印仁和； 陈溪芳；

【Author】 Yin Renhe;Chen xifang Anhui Institute Of Technology Zhejiang University

【机构】 安徽工学院； 浙江大学 合肥 230069； 杭州 310027；

【摘要】 叙述了PVD镀膜技术的基本原理,各种PVD工艺和膜分析方法的最新进展,介绍了PVD今后的研究方向。

【Abstract】 This paper describes the fundamentals of the film forming techniques byPVD process. The newest development of varions PVD technology and film analysis.The future devdlopments of PVD process are also introduced.

【关键词】 PVD； 膜； 真空蒸镀； 离子镀； 溅射；
【Key words】 PVD； film； vaporization； Ion plating； sputtering；
  • 【分类号】O646.6
  • 【被引频次】7
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