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CVD陶瓷镀层的发展和应用

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【作者】朱练平；

【摘要】 <正> 1 前言化学蒸镀(Chemical Vapour Deposition,简称CVD)技术愈来愈多地用来制造陶瓷化合物镀层,以改变金属、陶瓷或聚合物的表面性质,使之能用于某种特定或严格的环境。碳化物、氮化物、氧化物、硅化物、硼化物等,已经被蒸镀在各种各样的待镀制品上,用于解决高温、磨损、腐蚀、更多还原

【关键词】蒸镀法； CVD；表面性质；硼化物；硅化物；光学特性；金属有机物；新型陶瓷材料；扩散势垒；化学计量；

【文献出处】陶瓷研究 ,Ceramic Studies Journal , 编辑部邮箱 ,1992年04期

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