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Ti3X相析出的电子浓度规律

ELECTRON CONCENTRATION RULE FOR THE FORMATION OF Ti3X PHASE

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【作者】 万晓景经开良史文尤杰张丙

【Author】 WAN Xiaojing;JING Kailiang;SHI Wen;YIU Jie;ZHANG Bing(Shanghai University of Technology)

【机构】 上海工业大学冶金及材料研究所上海工业大学上海工业大学 教授上海市 200072

【摘要】 在过去工作的基础上,进一步研究了 Ti-Al-Ge,Ti-Al-In,Ti-Al-Hf 及了 Ti-Al-Ta 四个三元系中 Ti3X 相析出的电子浓度规律。实验结果表明,在含 Ge,In,Hf 及 Ta 的 Ti-Al 固溶体中,Ti3X 相的形成仍遵循电子浓度规律,其特征电子浓度(?)=ΣNfi=2.12。参与合金化的价电子是由合金元素的电子结构决定的,对于非过渡元素 In,Ge 的价电子数为 s+p 电子,即 NIn=3(s2p1),NGee=4(s2p2),而过渡族元素 Hf 及 Ta 的价电子数是2,即 NHf=NTa=2。

【Abstract】 Based on our previous works,four ternary alloy systems,Ti-Al-Ge,Ti-Al-In,Ti-Al-Hf and Ti-Al-Ta,were selected to investigate the electron concentrationrule for the formation of Ti3X-phase.Results show that the formation of Ti3X-phase in theTi-Al solid solution containing Ge,In,Hf and Ta obeys the electron concentration rule aswell.The characteristic electron concentration for the formation of Ti3X-phase is(?)=∑ Nifi=2.12.The valence electron number of the alloying elements depends on their ownelectronic structure,i.e.,NGe=4(s2p2),NIn=3(s2p1)for non-transition elements Ge and In;NHf=NTa=2 for transition elements Hf and Ta.

【基金】 国家自然科学基金,5870013
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