节点文献

高速双极集成电路中的快速热退火

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【作者】 何德湛； 陈学良； 杨华丽； 刘晓岚；

【机构】 中国科学院上海冶金研究所微电子学分部； 中国科学院上海冶金研究所微电子学分部 200233； 200233； 200233；

【摘要】 本文介绍近年来发展较快的快速热退火(RTA)技术在高速双极IC(集成电路)的应用,文中给出RTA技术与普通热退火的比较,也给出了RTA技术在高速双极集成电路中应用的结果。

【关键词】 双极集成电路； 快速热退火； 扩散炉； 基区； 发射结； 集电结； 硼注入； 集电区； 氮氧化硅； 管芯；
  • 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,1992年01期
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】41
知网节下载
节点文献中： 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络
二级参考文献(0)
参考文献(0)
共引文献(0)
节点文献
同被引文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)