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离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响

INFLUENCE OF ION BOMBARDMENT ON THE DEPOSITION RATE AND PROPERTIES OF DLC FILMS DEPOSITED BY SPUTTERING

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【作者】 黄良甫； 罗崇泰； 刘定权； 徐明； 杨益民； 李守中； 王天民； 王维洁； 刘贵昂；

【Author】 Huang Liangfu;Luo Chongtai;Liu Dingquan;Xu Ming;Yang Yimin;Li Shouzhong;Wang Tianmin;Wang Weijie;Liu Guiang Lanzhou Institute of Physics Department of Materials Science, Lanzhou University

【机构】 兰州物理研究所； 兰州大学材料科学系； 兰州大学材料科学系；

【摘要】 在离子束溅射石墨靶淀积DLC膜的同时用离子束轰击,对于拓宽和改善DLC膜的性质有重要意义。本文报导了离子束轰击对DLC膜的成膜速率、电阻率、折射率、红外透过率和抗腐性等影响的实验结果,分析讨论了离子轰击的影响机制。

【Abstract】 It is of great importance to improve the properties of DLC films deposited with simultaneous ion bombardment du-ring film growth by ion beam sputtering on graphite target. In the present paper,results of the inf1uence of ion bombard-ment on the deposition rate,resistivity, refractive index,infrared transmittance and corrosion resistance were reported andthe mechanism of the effect of ion bombardment has been discussed.

【关键词】 溅射淀积； DLC膜； 离子轰击； 红外透过率； 离子束溅射； 类金刚石； 基片温度； 离子源； 红外区； 能量比；
  • 【文献出处】 真空科学与技术 ,Vacuum Science and Technology , 编辑部邮箱 ,1991年05期
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