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GaAs超薄层腐蚀与非线性光学器件制作
【摘要】 用液相外延生长与H2O2选择腐蚀制备了GaAs—GaAlAs非线性光学器件。研究了H2SO4:H2O2:H2O腐蚀液的快速腐蚀和H2O2—NH3·H2O的GaAs选择腐蚀过程。适宜pH值的H2O2腐蚀液对GaAs具有~1μm/小时的腐蚀速度,而对Ga1-xAlxAs(x≥0.25)不产生腐蚀。分析和讨论了腐蚀过程和速择腐蚀机理。
- 【文献出处】 发光快报 , 编辑部邮箱 ,1991年05期
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【摘要】 用液相外延生长与H2O2选择腐蚀制备了GaAs—GaAlAs非线性光学器件。研究了H2SO4:H2O2:H2O腐蚀液的快速腐蚀和H2O2—NH3·H2O的GaAs选择腐蚀过程。适宜pH值的H2O2腐蚀液对GaAs具有~1μm/小时的腐蚀速度,而对Ga1-xAlxAs(x≥0.25)不产生腐蚀。分析和讨论了腐蚀过程和速择腐蚀机理。