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高频离子源中应用等离子体化学反应引出金属离子过程中一个基本规律的研究
ON A BASIC PRINCIPLE IN THE PROCESS EXTRACTING METAL IONS BY PLASMA CHEMICAL REACTION IN HF ION SOURCE
【摘要】 高频离子源中应用等离子体化学反应引出金属离子的过程中,总结出了一个基本规律——“氧化——还原——氧化”,“”—”—””,“”—”—””,……。利用此规律,解决了一批金属离子的引出问题。已引出的离子有:Re~+、W~+、Mo~+、Ta~+、Pt~+、Pd~+、Au~+、Ag~+、Nb~+、Ti~+、V~+、Cr~+、Ni~+、Fe~+、Cu~+、Zn~+、Ga~+、Ge~+、Se~+、Si~+、Al~+、Mg~+、Be~+、Li~+、Bi~+、In~+、Sn~+、Pb~+、Cd~+等和稀土离子Y~+、Nd~+、Ce~+、Sm~+、Tm~+、Dy~+、Gd~+、Er~+等。
【Abstract】 A basic Principle in the process extracting metal ions by plasma chemical reaction in HF ion source is summarized: "Oxidation-Reduction-Oxidation",“”-”-””,“”-”-””, .......Following the principle several metal ionsextaction could be realized.The ions extracted are Re+, W+, Mo+, Ta+, Pt+, Pd+, Au+, Ag+. Nb+. Ti+, V+, Cr+, Ni+, Fe+, Cu+, Zn+, Ga+, Ge+, Se+, Si+, Al+, Mg+, Be+, Li+, Bi+, In+, Sn+, Pb+, Cd+ etc.and rare earths ions Y+, Nd+, Ce+, Sm+, Tm+, Dy+, Gd+, Er+ etc.
【Key words】 HF Ion source; Plasma chemical reaction; Metal ion extraction; Oxidation-Reduction.;
- 【文献出处】 微细加工技术 ,Microfabrication Technology , 编辑部邮箱 ,1991年01期
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