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等离子体源离子注入——一种材料表面改性的新技术

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【作者】 陈英方； 吴知非；

【机构】 中国纺织大学应用物理教研室； 中国纺织大学应用物理教研室 上海200051； 上海200051；

【摘要】 本文介绍了近几年发展起来的一种新型离子注入技术——等离子体源离子注入（Ｐｌａｓｍａ Ｓｏｕｒｃｅｌｏｎ　ｌｍｐｌａｎｔａｔｉｏｎ，简称 ＰＳＩＩ）——的原理、装置和应用．除可应用于半导体外，这一技术应可满足金属或非金属材料表面改性的需要．实践证明它是一种极有开拓前景的离子注入技术．

【关键词】 材料表面改性； 离子注入技术； 非金属材料； 耐腐蚀性； 子注； 实践证明； 保留剂； 耐磨性能； 硬度比； 均匀性；
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