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晶体的化学机械抛光

Chemico-Mechanical Polishing Technology of Crystal

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【作者】 徐润源；

【Author】 Xu Runyuan(Shanghai Institute of Ceramics, Academia Sinica, Shanghai, 200050)

【机构】 中国科学院上海硅酸盐研究所 上海； 200050；

【摘要】 <正> 本文阐述了光学加工对光学晶体在激光技术应用中的重要性。传统的加工工艺不可避免地给晶体元件带来诸多的表面缺陷,并导致“光伤阈值”的降低。为提高“光伤阈值”,实践证明,化学—机械抛光是一种有效的方法。本文还介绍了几种晶体的化学—机械抛光工

【关键词】 化学机械抛光； 光学加工； 抛光工； 激光技术； 表面缺陷； 加工工艺； 实践证明； 伤阂；
  • 【文献出处】 人工晶体学报 ,Journal of Synthetic Crystals , 编辑部邮箱 ,1991年Z1期
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