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微波PCVD合成金刚石薄膜

Diamond Films Synthesized by Microwave Plasma CVD

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【Author】 Zhang Zhiming Hong Ailing Zhuang Zhichen Zhu Pinfang(Shanghai Jiaotong University, Shanghai, 200030)

【机构】上海交通大学；上海交通大学上海； 200030；上海； 200030；

【摘要】 <正> 作者以丙酮和氢气作为反应气体,用微波PCVD法合成出金刚石薄膜。微波源的频率为2.45GHz,反应室为外径φ40的石英玻璃管。典型的生长条件是压力5～50Torr、总流量100SCCM、丙酮浓度0.4～2Vol％、微波功率约300W。在反应过程中,基片由于受到放电区各种活性粒子的冲击、温度可高达700～900℃。沉积产物的形貌和结构用扫描电镜、X射更多还原

【关键词】 PCVD；金刚石薄膜；微波功率；反应气体；反应室；石英玻璃；微波源；活性粒子； SCCM；扫描电镜；

【文献出处】人工晶体学报 ,Journal of Synthetic Crystals , 编辑部邮箱 ,1991年Z1期

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