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直流等离子射流法制备金刚石薄膜

Preparation of Diamond Thin Films by the DC-Plasma Jet Method

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【作者】 韩培刚； 周克崧； 王德政； 王健； 冯碧洸；

【Author】 Han Peigang Zhou Kesong Wang Dezheng Wang Jian Feng Biguang(Guangzhou Research Institute of Nonferrous Metals, Guangzhou, 510561)

【机构】 广州有色金属研究院； 广州有色金属研究院 广州； 510561； 广州； 510561；

【摘要】 <正> 直流等离子射流法是一种成膜速率较高的制备优质金刚石薄膜的方法。本工作利用自己设计研制的直流等离子射流源进行了金刚石薄膜的低压气相合成制备。设备电源功率2kW以上,气体总流量15～20SI-M,CH4/CH4+H2比率为1～5％。衬底材料为Mo,W,Ti,

【关键词】 等离子射流法； 金刚石薄膜； 合成制备； 衬底材料； 电源功率； 非晶碳； 粒度比； 沉积率； 衍射峰； 应用领域；
  • 【文献出处】 人工晶体学报 ,Journal of Synthetic Crystals , 编辑部邮箱 ,1991年Z1期
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