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多晶薄膜X射线平行光束法
【摘要】 阐述了平行光束法的原理,并指出平行光束法与 Bragg-Brentano(简称 B—B)法和 Seemann-Bohlin(简称 S-B)法的区别。笔者使用日本理学 D/mex-rBx 射线衍射系统,采用平行光束法对单晶硅基体上厚度是1.21、2.05、4.22、5.46、11.30、23.85(nm)6个金膜样品进行了测试。实验结果表明:平行光束法可测出单晶硅基体上厚度是1.21nm 金膜的(111),(200),(220),(311)4个峰,厚度是23.85nm 金膜的(111),(200),(220),(311),(222),(331),(420)7个峰。据平行光束法原理,改变入射角,X 射线的穿透深度也随之变化,可采用平行光束法研究薄膜物相的纵向分布变化。
- 【文献出处】 理化检验.物理分册 ,Physical Testing and Chemical Analysis (Part A:Physical Testing) , 编辑部邮箱 ,1991年06期
- 【分类号】TG115.22
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