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原位直流磁控溅射制备YBa2Cu3O7-δ超导薄膜

Fabrication of Superconducting YBa2 Cu3 07-δ Thin Film by DC Magnetron Sputtering and in Situ Annealing

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【作者】 杨德嘉； 经东； 曹春海； 王予良； 过海洲； 邵凯；

【Author】 Yang Dejia, Jin Dong, Cao Chunhai, Wang Zhiliang, Guo Haizhou, Shao Kai (Nanjing Electronic Devices Institute, 210016)

【机构】 南京电子器件研究所； 南京电子器件研究所 210016； 210016； 210016；

【摘要】 采用改装的直流磁控溅射设备,在适当的氧、氩气体中,对被溅射衬底加热进行YBCO材料的直流磁控溅射,溅射结束继续按温度程序控制曲线原位进行1个大气压下的氧气中退火,所得到的YBCO薄膜,其零电阻转变温度T_co一般在85～90K,临界电流密度J_c(77K)可以大于1×10~6A/Cm~2.

【Abstract】 The superconducting YBa2Cu3O7-8 thin film has been fabricated in an improved comercial DC magnetron sputtering system in warking gases of argon and oxygen. During sputtering the substrates are heated and after sputtering the film is in situ annealed in pure oxygen with a standard atmosphere. The zero resistance transition temperatures of thin film range from 85K to 90K with a critical current density JC(77K) of 1 × 108A/cm2.

【关键词】 直流磁控溅射； YBa2Cu3O； 超导薄膜； 溅射方法； YBCO； 薄膜质量； 零电阻； 射频溅射； 溅射制备； 转变温度；
  • 【文献出处】 固体电子学研究与进展 ,Research & Progress of Solid State Electronics , 编辑部邮箱 ,1991年01期
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