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溅射钨薄膜热稳定性的研究

The Thermal Stability of Magnetic Sputtering Amorphous Tungsten Films

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【Author】 He Yuliang, Liu Liyong, Qu Shulin (Department of Physics, Nanjing University, 210008)Wai Shengen, Rong Ailien(The Research Room of Amorphous Physics ofBeijing Aeronautic and Astronautic University. 100083)

【机构】南京大学物理系；北京航空航天大学非晶物理室；北京航空航天大学非晶物理室 210008； 210008； 100083； 100083；

【摘要】对使用磁控溅射法沉积的钨薄膜进行了热退火研究.指出,在低于300 ℃的退火温度范围内钨膜的结构和电学性质是不稳定的.更多还原

【Abstract】 We employ the magnetic sputtering method to deposit amorphous tungsten films and investigate their thermal annealing process. These films show an unstable structures and electrical properties when the annealing temperature is lower than 300℃更多还原

【关键词】薄膜结构；磁控溅射法；退火温度；电学性质；金属薄膜；金属化薄膜；温度稳定性；硅衬底；北京仪器厂；非晶态；

【文献出处】固体电子学研究与进展 ,Research & Progress of Solid State Electronics , 编辑部邮箱 ,1991年01期

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