节点文献

等离子体处理对有机硅膜气体透过性能的影响

The effect of plasma treatment on gas permeability of organosilicon membrane

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 孙求实后晓淮

【Author】 Sun Qiushi Hou Xiaohuai(Institiute of Chemistry, Academia Sinica, Beijing 100080)

【机构】 中国科学院化学研究所中国科学院化学研究所

【摘要】 本文研究了有机硅膜经等离子体处理和等离子体聚合沉积后,气体透过性能的变化。以及放置一段时间后,随着等离子体处理效果的变化,膜的气体透过性能的改变。结果表明无论是Ar等离子体处理的有机硅膜,还是八甲基环四硅氧烷(D4)等离子体聚合沉积的有机硅膜,其气体透过性能都发生了明显的变化。即经等离子体处理后,膜的气体透过系数下降,选择分离系数上升。在放置一段时间后,其气体透过系数和选择分离系数均表现出有回复的趋势。因此,等离子体处理对膜的气体透过性能的影响随放置时间而变化。

【Abstract】 This paper studies the gas permeability of organosilicon membrane treated by plasma treatment or plasma polymeriaztion. The effect of decay of polar surface on the gas permeability of plasma treated membranes was discussed.

  • 【文献出处】 功能高分子学报 ,Journal of Functional Polymers , 编辑部邮箱 ,1991年04期
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】55
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络