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分子束外延生长p型ZnTe:Sb-ZnSe应变层超晶格材料

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【摘要】 我们以掺Fe的高阻InP作衬底材料,在国产MBE-Ⅲ型设备上,采用调制掺杂技术,成功地生长出了p型ZnTe:Sb-ZnSe应变层超晶格材料。室温霍耳效应测量表明:载流子浓度为1014/cm3量级,迁移率为250cm2/V·s。俄歇谱分析清楚表明,仅在ZnTe层中Sb原子存在,且界面比较分明,调制掺杂已获初步成功。

【关键词】 分子束外延; 超晶格; 半导体掺杂;
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