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DLC膜作为半导体器件表面钝化膜的研究

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【作者】 毛友德； 刘声雷； 杨国伟；

【机构】 合肥工业大学应用物理系； 合肥工业大学应用物理系 230009； 230009；

【摘要】 本文以甲苯为工作气体,采用rfPCVD方法在各种衬底上制备出DLC膜,研究了Al-DLC-Si结构的高频C-V特性,以及作为半导体器件的表面钝化膜的应用。

【关键词】 半导体器件； DLC膜； 钝化膜； 工作气体； 击穿电压； 类金刚石碳膜； 薄膜材料； 物理气相沉积法； 滞后回线； 介质膜；
【基金】 机电部机械工业技术发展基金项目 编号:86J7720
  • 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,1991年04期
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