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氮分压对磁控溅射TiN膜层光学性质的影响

EFFECT OF THE PARTIAL PRESSURE OF NITROGEN ON THE OPTICAL PROPERTIES OF THE TiN FILM PREPARED BY MAGNETICALLY CONTROLLED SPUTTERING

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【作者】 尹万里； 郭信章；

【Author】 Yin Wanli, Guo Xinzhang (Beijing Institute of Solar Energy)

【机构】 北京市太阳能研究所； 北京市太阳能研究所；

【摘要】 本文主要叙述用磁控溅射制备TiN薄膜,氮气的分压强对膜层光学常数——折射率和消光系数的影响。对它的研究将有利于TiN仿金镀工艺的选择和应用

【关键词】 磁控溅射； TiN； 光学性质； 光学常数； 氮分压； 仿金； 消光系数； 光学性能； 偏振仪； 沉积温度；
  • 【文献出处】 真空科学与技术 ,Vacuum Science and Technology , 编辑部邮箱 ,1990年01期
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