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压力对电弧源喷射微粒密度及膜沉积率的影响

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【摘要】 在2.7Pa 至2.7×10-2Pa 氮压力范围,测量了不同压力下电弧源喷射的微粒密度及薄膜沉积速率的变化。随压力升高,微粒密度及膜沉积速率下降。利用 AES 和 SIMS 对不同压力下形成的 TiN 膜及工作后的阴极表面进行了深度剖面分析。最后对实验结果进行了讨论。

【关键词】 真空镀膜电弧镀沉积速率
  • 【文献出处】 真空与低温 ,Vacuum and Cryogenics , 编辑部邮箱 ,1990年02期
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