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气相法生长金刚石薄膜过程和热解 CVD 实验
Growth of Diamond Thin Films by Gas Phase and Experaments by Thermal CVD
【摘要】 本文简述了气相法生长金刚石薄膜的基本过程,论述了反应气体系统及碳源浓度、激活源、基片温度和预处理等参数对金刚石结构和性能的重要影响.
【Abstract】 This paper reports the fundamental process of the diamond thinfilms synthesized by gas phase.It deals with the significant influences of thereactive gas systems,carbon concentrations,activated sources,substratetemperatures and pre-treatment on the properties and structures of the films.
【关键词】 金刚石薄膜;
气相生长;
热解 CVD;
【Key words】 diamond thin film; gas phase growth; thermal chemical vapor deposition;
【Key words】 diamond thin film; gas phase growth; thermal chemical vapor deposition;
【基金】 国家高技术和上海市自然科学基金资助课题
- 【文献出处】 上海交通大学学报 ,Journal of Shanghai Jiaotong University , 编辑部邮箱 ,1990年02期
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