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气相法生长金刚石薄膜过程和热解 CVD 实验

Growth of Diamond Thin Films by Gas Phase and Experaments by Thermal CVD

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【作者】 张志明丁正明万锃庄志诚洪爱玲李胜华

【Author】 Zhang Zhiming Ding Zhengming Wan Zheng Zhuang Zhicheng Hong Ailing Li Shenghua

【机构】 上海交通大学应用化学系、理化中心上海交通大学应用化学系、理化中心

【摘要】 本文简述了气相法生长金刚石薄膜的基本过程,论述了反应气体系统及碳源浓度、激活源、基片温度和预处理等参数对金刚石结构和性能的重要影响.

【Abstract】 This paper reports the fundamental process of the diamond thinfilms synthesized by gas phase.It deals with the significant influences of thereactive gas systems,carbon concentrations,activated sources,substratetemperatures and pre-treatment on the properties and structures of the films.

【基金】 国家高技术和上海市自然科学基金资助课题
  • 【文献出处】 上海交通大学学报 ,Journal of Shanghai Jiaotong University , 编辑部邮箱 ,1990年02期
  • 【被引频次】4
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