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含吡啶鎓伊利德聚丙烯酸类高分子的合成及其光敏性能研究

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【作者】 赵儒林； 范昌烈； 卓仁禧；

【机构】 武汉大学化学系； 武汉大学化学系 武汉 430072； 武汉 430072； 武汉 430072；

【摘要】 <正> 这个光重排反应在光敏高分子中的应用最近已有报道。我们利用这种光照后其水溶性发生变化的性质,合成了含吡啶鎓伊利德的水显影光致抗蚀剂。 合成路线如下:

【关键词】 吡啶鎓伊利德； 聚丙烯酸； 紫外光敏高分子；
  • 【文献出处】 科学通报 ,Chinese Science Bulletin , 编辑部邮箱 ,1990年13期
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