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Si3N4陶瓷与金属的真空扩散焊

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【作者】 包方涵; 任家烈; 周运鸿; 高志勇;

【机构】 清华大学; 清华大学;

【摘要】 本文在对多种合金系统的中间层广泛试验的基础上,着重对几种铝合金用作Si3N4/钢真空扩散焊的中间层进行了筛选试验,认为Al—5%Si作为中间层的接头强度最好。较适当的焊接工艺条件是:扩散焊温度823K,压力60MPa,保温时间1800s。此时,接头中基本上不存在脆性相,剪切试验时是Al—5%Si层本身被剪断,说明两侧连接界面都是有较高的强度。通过SEM接头元素分析,断口X光衍射分析和热力学计算确认中间层与Si3N4之间的连接是通过:4Al+Si3N4=4AlN+3Si这一化学反应实现的。

  • 【文献出处】 电子工艺技术 ,Electronics Process Technology , 编辑部邮箱 ,1990年05期
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