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α-Si:H多层膜切面电镜观察分析

THE OBSERVATION AND ANALYSIS OF α-Si:HMULTILAYER FILMS SECTIONS BY SEM

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【作者】 惠恒荣徐玉辉唐方奎

【Author】 Hui Hengrong;Xu yuhui;Tang Fangkui(Dept.of Microelectronie Science and Eng.)

【机构】 电子科技大学微电子科学与工程系电子科技大学微电子科学与工程系

【摘要】 本文制备了六种不同结构的 α-Si:H 多层膜结构,对其切面进行了扫描电镜观察分析.结果表明:辉光法生长 α-Si:H 膜过程中存在沉积和刻蚀一对对抗性矛盾,在常规工艺下各层界面不明显存在,在特殊条件下,可能生长出尺度不同的微晶镶嵌在非晶网络中。

【Abstract】 In this paper six kinds of a-Si:Ⅱ multilayer film structures are fabri-cated.Their sections are observced and analyzed by Scanning Electron Microscope(SEM).The results show that there exists a antagonistic contradiction of deposition andetching in the process of glowing a—Si:H films by glow discharge.By the common technolo-gy,the interfaces among every layer don’t exist obviouslu On the special conditions,it ispossible to form crystallites and to get into amorphous network.

  • 【文献出处】 电子科技大学学报 ,Journal of University of Electronic Science and Technology of China , 编辑部邮箱 ,1990年01期
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