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多晶硅应变膜压力传感器

Polysilicon-Diaphragm pressure Sensors

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【作者】 王跃林刘理天郑心畲李志坚

【Author】 Wang Yaolin/Institute of Microelectronics, Tsinghua University,Beijing 100084Liu Litian/Institute of Microelectronics, Tsinghua University,Beijing 100084Zheng Xinyu/Institute of Microelectronics, Tsinghua University,Beijing 100084Li Zhijian/Institute of Microelectronics, Tsinghua University,Beijing 100084

【机构】 清华大学微电子学研究所清华大学微电子学研究所 北京 浙江大学光电子学教研室北京北京

【摘要】 本文研究了多晶硅应变膜压力传感器制作技术,提出了防止多晶硅应变膜变形的工艺条件,研制出了多晶硅应变膜压力传感器。这一技术简单、与IC工艺较为兼容,适合研制集成压力传感器。

【Abstract】 The fabrication techniques for polysilicon-diaphragm pressure sensors were studied.Theprocess conditions for making undeformed polysilicon-diaphragm were suggested, and polysilicon-diaphragm pressure sensors were made. The technology is simple, and has better process compatibilitywith current IC technology. Therefore, it sutits to the fabrication of integrated pressuresensors.

【关键词】 压力传感器多晶硅退火
【Key words】 Pressure sensorPolysiliconAnnealing
【基金】 国家自然科学基金
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,1990年09期
  • 【被引频次】6
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